什么是光刻机

2026-05-07

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程...

光刻机是干什么用的 中国目前技术能造吗

2026-04-21

光刻机又名光刻系统，它是制造芯片必须的核心装备。 要想制造先进工艺的芯片，就必须依靠先进光刻机的支持。很不幸，目前中国无法制造先进光刻机 ，全球最先进的高端光刻机是EUV光源，这种光刻机只有荷兰的ASML公司能够制造。 据悉，ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商 ，年产量为40余台。EUV光刻机的价格昂贵，每台要价约1.3亿美元，不过尽管价格昂贵，EUV光刻机还是“有价无市”...