光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

其他文章

论证的意思是什么

粽叶是什么植物上的叶子

繁体字取代怎么写

石英是什么晶体

冬季取暖用什么设备好

酸奶能加热喝吗

诗圣是谁辷

学校调档线是什么意思

2022年有什么重大周年纪念

老干妈的产地是那里呢