奥普光电：超精尺研发周期取决于需求及技术积累
- 来源：互联网
- 发布时间：2026-04-18 10:54:52
金融界12月16日消息，有投资者在互动平台向奥普光电提问：请问老师，超精尺一般需要研发几年？贵司曾回复超精尺可以用于DUV和EUV光刻机，但DUV和EUV光刻机对精度的要求间隔非常大，难道高精尺在光刻机方面没有用武之地，所有高精度光刻机都必须用超精尺吗？贵司曾回复贵司的高精尺与德国海德汉的高精尺都达到国际同等水平了，ASML光刻机的光栅尺来源于德国海德汉，请问贵司的高精尺就不能用于光刻机吗？还是贵司对光刻机生产商不够了解，他们采购了是否用于光刻机？
公司回答表示：超精尺的研发周期视使用需求及技术积累情况而定，一般研发周期较长。光栅尺是半导体设备的核心部件，其精度要求取决于整机的技术指标需求。
